K.Nagashima,M.Ara tani and H.Funakubo,: "Property Improvement of PZT film prepared by Source gas Pulse-introduced metalorganoc Chemical Vapor Deposition"Jpn.J.Appl.Phys.,. 39. L996-L998
K.Nagashima,M.Ara tani and H.Funakubo,: "Property Improvement of PZT film prepared by Source gas Pulse-introduced metalorganoc Chemical Vapor Deposition"Jpn.J.Appl.Phys.,. 39. L996-L998
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K.Nagashima、M.Ara tani 和 H.Funakubo，：“通过源气体脉冲引入金属有机化学气相沉积制备的 PZT 薄膜的性能改进”Jpn.J.Appl.Phys.，。
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