Application of Thermal Plasma Jet Irradiation to Crystallization and Gate Insulator Improvement for High-Performance Thin-Film Transistor Fabrication
Application of Thermal Plasma Jet Irradiation to Crystallization and Gate Insulator Improvement for High-Performance Thin-Film Transistor Fabrication
复制标题
热等离子体射流辐射在高性能薄膜晶体管制造中的结晶和栅极绝缘体改进中的应用
DOI：
--
复制
发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
S.Miyazaki
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
S.Higashi;S.Hayashi;Y.Hiroshige;Y.Nishida;H.Murakami;S.Miyazaki
