N2およびAr/H2アニールによるSnOx薄膜の還元状態の比較
N2およびAr/H2アニールによるSnOx薄膜の還元状態の比較
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N2和Ar/H2退火SnOx薄膜还原状态比较
DOI：
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发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
渡辺 幸太郎，川口 拓真，山口 智広，尾沼 猛義，本田 徹，相川 慎也
中科院分区：
文献类型：
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作者：
野寺 歩夢，森 峻;相川 慎也;渡辺 幸太郎，川口 拓真，山口 智広，尾沼 猛義，本田 徹，相川 慎也
