K_2NiF_4型ヒドリド含有酸化物の高圧合成とイオン導電物性
K_2NiF_4型ヒドリド含有酸化物の高圧合成とイオン導電物性
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K_2NiF_4型含氢化物氧化物的高压合成及其离子导电性能
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
菅野了次
中科院分区：
文献类型：
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作者：
松岡慎治;小林玄器;平山雅章;菅野了次
