大島 隆文: "SiH_2Cl_2を用いたSiの低温エピタキシャル成長-250℃における光CVD" 電子情報通信学会技術研究報告. 92. 59-64 (1992)
大島 隆文: "SiH_2Cl_2を用いたSiの低温エピタキシャル成長-250℃における光CVD" 電子情報通信学会技術研究報告. 92. 59-64 (1992)
复制标题
Takafumi Oshima：“在 -250℃ 下使用 SiH_2Cl_2 光学 CVD 进行 Si 的低温外延生长” IEICE 技术报告。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
