ケイ素保護基を用いた低対称テトラチアフルバレンの効率的合成
ケイ素保護基を用いた低対称テトラチアフルバレンの効率的合成
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利用硅保护基团高效合成低对称性四硫富瓦烯
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
藤野大士
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M Kimura;A Itoi;Yosuke Yamada;S Nakae;劉驫;藤野大士
