Yukari Ishikawa: "Fabrication of highly oriented Si:SiO2 nanoparticles using low energy oxygen ion implartation during Si molecular beam epitaxy" Appl.Phys.Lett.68(16). 2249-2251 (1996)
Yukari Ishikawa: "Fabrication of highly oriented Si:SiO2 nanoparticles using low energy oxygen ion implartation during Si molecular beam epitaxy" Appl.Phys.Lett.68(16). 2249-2251 (1996)
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Yukari Ishikawa：“在硅分子束外延过程中使用低能氧离子注入制造高度定向的 Si:SiO2 纳米粒子”Appl.Phys.Lett.68(16)。
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