K.Nakamura,T.Imura,H.Sugai.M.Ohkubo,K.Ichihara: "High-Speed Etching of Indium-Tin-Oxide Thin Films using an Inductively Coupled Plasma" Japanese Journal Applied Physics. 33. 4438-4441 (1994)
K.Nakamura,T.Imura,H.Sugai.M.Ohkubo,K.Ichihara: "High-Speed Etching of Indium-Tin-Oxide Thin Films using an Inductively Coupled Plasma" Japanese Journal Applied Physics. 33. 4438-4441 (1994)
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K.Nakamura,T.Imura,H.Sugai.M.Ohkubo,K.Ichihara：“使用感应耦合等离子体高速蚀刻氧化铟锡薄膜”日本应用物理杂志。
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