Double Exposure Laser Interference Lithography for Pattern Diversity using Ultraviolet Continuous-Wave Laser
Double Exposure Laser Interference Lithography for Pattern Diversity using Ultraviolet Continuous-Wave Laser
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使用紫外连续波激光实现图案多样性的双曝光激光干涉光刻
DOI：
10.6117/kmeps.2019.26.2.009
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
B. Shin
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yong;Jun Han Park;D. Yun;C. Gwak;B. Shin
