Silicon nitride films prepared by high-density plasma chemical vapor deposition for solar cell applications
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DOI：
10.1016/s0257-8972(01)01554-7
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发表时间：
2002-04
影响因子：
5.4
通讯作者：
Sanghoon Lee;I. Lee;J. Yi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Sanghoon Lee;I. Lee;J. Yi
