T.Nishidoi: "Long ECR Plasma Source for Large Area Plasma Processing" Proc.3rd Int.Conf.Reactive Plasma and 14th Symp.Plasma Processing. 383-384 (1997)
T.Nishidoi: "Long ECR Plasma Source for Large Area Plasma Processing" Proc.3rd Int.Conf.Reactive Plasma and 14th Symp.Plasma Processing. 383-384 (1997)
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T.Nishidoi：“用于大面积等离子体处理的长 ECR 等离子体源”Proc.3rd Int.Conf.Reactive Plasma 和 14th Symp.Plasma Process。
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