Growth and mechanical properties of (Ti, Al) N films at inner wall of sub-millimeter scale small holes deposited by HIPIMS
Growth and mechanical properties of (Ti, Al) N films at inner wall of sub-millimeter scale small holes deposited by HIPIMS
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HIPIMS沉积亚毫米级小孔内壁(Ti,Al)N薄膜的生长及力学性能
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M. Yang
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Shimizu;Y. Teranishi;K. Morikawa;Y. Kondo;H. Nagasaka;M. Yang
