Atomically Controlled Processing in Si-Based CVD Epitaxial Growth
Atomically Controlled Processing in Si-Based CVD Epitaxial Growth
复制标题
硅基 CVD 外延生长中的原子控制处理
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
B.Tillack
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J.Murota、M.Sakuraba;B.Tillack
