Preparation of AlN film by laser CVD using Al(acac)_3 and NH_3 Precursors
Preparation of AlN film by laser CVD using Al(acac)_3 and NH_3 Precursors
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Al(acac)_3和NH_3前驱体激光CVD制备AlN薄膜
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Takashi Goto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yu You;Akihiko Ito;Rong Tu;Takashi Goto
