長谷川誠一: "Control of preferential orientation in polycrystalline silicon films prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition" Journal of Electrochemical Society.
長谷川誠一: "Control of preferential orientation in polycrystalline silicon films prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition" Journal of Electrochemical Society.
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长谷川精一：“通过等离子体增强化学气相沉积制备的多晶硅薄膜中择优取向的控制”电化学学会杂志。
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