XPS study on film thickness dependence of surface charge-up and resistance of SiO2 films on Si
XPS study on film thickness dependence of surface charge-up and resistance of SiO2 films on Si
复制标题
Si 上 SiO2 薄膜表面充电和电阻对薄膜厚度依赖性的 XPS 研究
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and K. Hirose
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Ushimaru;T. Harie;D. Kobayashi;T. Yamamoto;and K. Hirose
