低速陽電子ビームを用いた配線構造中のLow-k膜及びCu配線の欠陥評価
低速陽電子ビームを用いた配線構造中のLow-k膜及びCu配線の欠陥評価
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使用慢正电子束评估互连结构中低 k 膜和铜互连的缺陷
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
他
中科院分区：
文献类型：
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作者：
上殿明良;他
