T.Ito, Y.Ikeda, H.Shirai: "Disorder-Induced Nucleation in the Nanocrystalline Silicon Film Growth from Chlorinated Materials by RF Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition"Journal of Non-Crystalline Solids. (印刷中). (2004)
T.Ito, Y.Ikeda, H.Shirai: "Disorder-Induced Nucleation in the Nanocrystalline Silicon Film Growth from Chlorinated Materials by RF Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition"Journal of Non-Crystalline Solids. (印刷中). (2004)
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T.Ito、Y.Ikeda、H.Shirai：“通过射频等离子体增强化学气相沉积从氯化材料生长纳米晶硅膜中的无序成核”非晶固体杂志（2004 年）。
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