Seiichi HASEGAWA: "Effects of active hydrogen on the stress relaxation of amorphous SiN_x : H films" Journal of Applied Physics. 75-3. 1493-1500 (1994)
Seiichi HASEGAWA: "Effects of active hydrogen on the stress relaxation of amorphous SiN_x : H films" Journal of Applied Physics. 75-3. 1493-1500 (1994)
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Seiichi HASEGAWA：“活性氢对非晶 SiN_x 应力松弛的影响：H 薄膜”《应用物理学杂志》。
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