親水/疎水パターン基板による微粒子の自己整列(III)

親水/疎水パターン基板による微粒子の自己整列(III)
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使用亲水/疏水图案基底的微粒自对准(III)

DOI:
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发表时间:
2005
期刊:
第66回応用物理学会学術講演会講演予稿集 3
影响因子:
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通讯作者:
内田和明
内田和明
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
金子新;柴田智英;諸貫信行;内田和明

文献摘要

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