化学的転写法により形成した極低反射率をもつSiナノクリスタル層/Si構造の光学特性
化学的転写法により形成した極低反射率をもつSiナノクリスタル層/Si構造の光学特性
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化学转移法形成的硅纳米晶层/极低反射率硅结构的光学特性
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
今村健太郎，入鹿大地，野中啓章，小林光
中科院分区：
文献类型：
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作者：
1.K. Kadowaki;J-L. Zhong;T. Ohta;Y. Tanabe;K. Murayama;K. Nakamura;G. Kuwano;T. Imai;T. Shimizu;S. Ohtsuki;Y. Ono;S. Kusunose;S. Nakagawa;M. Tsujimoto;H. Minami;T. Kashiwagi and T. Yamamoto;H. T. Miyazaki;今村健太郎，入鹿大地，野中啓章，小林光
