Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of Carbon Film into an 100-um-Diameter Hole under the Assistance of Source Gas Blowing
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of Carbon Film into an 100-um-Diameter Hole under the Assistance of Source Gas Blowing
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气吹辅助下等离子增强化学气相沉积碳膜到直径 100 um 的孔中
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and Motoyuki Murashima
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Rihito Ota;Hiroyuki Kousaka;Laxminarayan L. Raja;Noritsugu Umehara;Takayuki Tokoroyama;and Motoyuki Murashima
