合金箔を用いた六方晶窒化ホウ素のCVD成長とグラフェン積層膜への応用
合金箔を用いた六方晶窒化ホウ素のCVD成長とグラフェン積層膜への応用
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使用合金箔CVD生长六方氮化硼及其在石墨烯叠层中的应用
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
吾郷浩樹
中科院分区：
文献类型：
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作者：
田中大地;内田勇気;河原憲治;吾郷浩樹
