K.Kishimoto, Y.Nagamoto, K.Nagao, T.Miki, T.Koyanagi and K.Matsubara: "Microstructure control of FeSi_2 ceramics by rf-plasma processing in SiH_4 and GeH_4" AIP Conference Proc.316. 123-126 (1995)
K.Kishimoto, Y.Nagamoto, K.Nagao, T.Miki, T.Koyanagi and K.Matsubara: "Microstructure control of FeSi_2 ceramics by rf-plasma processing in SiH_4 and GeH_4" AIP Conference Proc.316. 123-126 (1995)
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K.Kishimoto、Y.Nagamoto、K.Nagao、T.Miki、T.Koyanagi 和 K.Matsubara：“SiH_4 和 GeH_4 中射频等离子体处理对 FeSi_2 陶瓷的微观结构控制”AIP 会议 Proc.316。
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