H.Fujiyama, T.Sumomogi, T.Endo: "Effect of O_2 gas partia pressure on mechanical properties of SiO_2 films deposited by radion frequency magnetron sputtering"J.Vac.Sci.Technol.A. 20・2. 356-361 (2002)
H.Fujiyama, T.Sumomogi, T.Endo: "Effect of O_2 gas partia pressure on mechanical properties of SiO_2 films deposited by radion frequency magnetron sputtering"J.Vac.Sci.Technol.A. 20・2. 356-361 (2002)
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H.Fujiyama、T.Sumomogi、T.Endo：“O_2 气体分压对射频磁控溅射沉积的 SiO_2 薄膜机械性能的影响”J.Vac.Sci.Technol.A 20・2。 2002）
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