Development of Large-Area Uniform RF Plasma Sources with Low-Inductance Internal Antenna Units -Effects of Antenna Size and Configurations-

Development of Large-Area Uniform RF Plasma Sources with Low-Inductance Internal Antenna Units -Effects of Antenna Size and Configurations-
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开发具有低电感内部天线单元的大面积均匀射频等离子体源 -天线尺寸和配置的影响 -

DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
Proc.6^<th> International Conf.on Reactive Plasmas and 23^<rd> Symp.on Plasma Processing, Matsushima, Japan, Jan.24-27, (2006)
影响因子：
--
通讯作者：
H.Deguchi
H.Deguchi
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
T.Mano;O.Sugiyama;Y.Shibuya;H.Nakayama;O.Takai;Y.Setsuhara;Y.Setsuhara;Kosuke TAKENAKA;Hiroshige DEGUCHI;Y.Setsuhara;Y.Setsuhara;H.Deguchi

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