退火处理对YMnO_3薄膜的结构和荧光性能的影响
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DOI：
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发表时间：
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影响因子：
0.7
通讯作者：
Ma Xue-Ming
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Lin Fang-Ting;Li Na;Shi Wang-Zhou;Ma Xue-Ming
