C.-W.Lee et al.: "Comparison of Accuracy of Electron Holography and EELS on Thickness Measurement of Amorphous SiO_2"Proc.European Congress of Electron Microsc.. I. 71-72 (2000)
C.-W.Lee et al.: "Comparison of Accuracy of Electron Holography and EELS on Thickness Measurement of Amorphous SiO_2"Proc.European Congress of Electron Microsc.. I. 71-72 (2000)
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C.-W.Lee 等人：“电子全息术和 EELS 对非晶 SiO_2 厚度测量精度的比较”Proc.European Conference of Electron Microsc.. I. 71-72 (2000)
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