ホスホニウム塩を一時的な保護基として用いたin situ Protection法 ―エノン存在下での他のカルボニル基の選択的変換
ホスホニウム塩を一時的な保護基として用いたin situ Protection法 ―エノン存在下での他のカルボニル基の選択的変換
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使用鏻盐作为临时保护基团的原位保护方法——在烯酮存在下选择性转化其他羰基
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
藤岡弘道
中科院分区：
文献类型：
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作者：
八幡健三;○巳浪真輝;渡邉 圭;吉川雄基;藤岡弘道
