A.Iwamoto,K.Sudoh,T.Yoshinobu and H.Iwasaki: "Transition of Growth Mode in Electrochemical Deposition of Copper:AFM Analysis and Simulation" Scanning Microscopy. (発表予定).
A.Iwamoto,K.Sudoh,T.Yoshinobu and H.Iwasaki: "Transition of Growth Mode in Electrochemical Deposition of Copper:AFM Analysis and Simulation" Scanning Microscopy. (発表予定).
复制标题
A.Iwamoto、K.Sudoh、T.Yoshinobu 和 H.Iwasaki：“铜电化学沉积中生长模式的转变：AFM 分析和模拟”扫描显微镜（待提交）。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
