Effect of annealing on characteristics of Ni48Fe12Cr40/Ni80Fe20 bilayer films deposited on Si(100)/SiO2 by electron beam evaporation
Effect of annealing on characteristics of Ni48Fe12Cr40/Ni80Fe20 bilayer films deposited on Si(100)/SiO2 by electron beam evaporation
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DOI：
10.1016/j.vacuum.2006.01.002
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发表时间：
2006-06
期刊：
影响因子：
4
通讯作者：
Ping Wu;H. Qiu;Yanqing Gao;Fengping Wang;L. Pan;Yue Tian
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Ping Wu;H. Qiu;Yanqing Gao;Fengping Wang;L. Pan;Yue Tian
