Giant Enhancement of Second-Harmonic Generation in Hybrid Metasurface Coupled MoS(2) with Fano-Resonance Effect.
Giant Enhancement of Second-Harmonic Generation in Hybrid Metasurface Coupled MoS(2) with Fano-Resonance Effect.
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具有法诺共振效应的混合超表面耦合 MoS2 二次谐波产生的巨大增强
DOI：
10.1186/s11671-022-03736-x
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发表时间：
2022-10-04
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
等离子体纳米结构由于其强的近场增强和固有的高设计自由度而被认为是在纳米尺度上提高非线性上转换速率的潜在候选者。在这里，我们设计了一种混合超颖表面，以实现适度的Fano共振相互作用，并创建双共振模式匹配条件，以促进二次谐波产生（SHG）的非线性过程。该混合超颖表面分别在基频和倍频波长附近呈现偶极和八极等离子体激元模式，进一步用于增强低维MoS 2半导体的二次谐波。混合超颖表面耦合MoS 2的最大倍频强度是其他结构单元耦合MoS 2的一万倍以上。据报道，转换效率高达3.27 × 10−7。这项工作为优化与半导体耦合的低维结构中的非线性光-物质相互作用铺平了道路。
Plasmonic nanostructures have been regarded as potential candidates for boosting the nonlinear up-conversion rate at the nanoscale level due to their strong near-field enhancement and inherent high design freedom. Here, we design a hybrid metasurface to realize the moderate interaction of Fano resonance and create the dual-resonant mode-matching condition to facilitate the nonlinear process of second harmonic generation (SHG). The hybrid metasurface presents dipolar and octupolar plasmonic modes near the fundamental and doubled-frequency wavelengths, respectively, further utilized to enhance the SHG of low-dimensional MoS2 semiconductors. The maximum intensity of SHG in hybrid metasurface coupled MoS2 is more than ten thousand times larger than that of other structure-units coupled MoS2. The conversion efficiency is reported to be as high as 3.27 × 10−7. This work paves the way to optimize nonlinear light–matter interactions in low-dimensional structures coupled with semiconductors.
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影响因子：
10.8
作者：
Gui, Lili;Bagheri, Shahin;Giessen, Harald
通讯作者：
Giessen, Harald
DOI：
10.1038/lsa.2016.13
发表时间：
2016-01
期刊：
Light, science & applications
影响因子：
--
作者：
Linnenbank H;Grynko Y;Förstner J;Linden S
通讯作者：
Linden S
影响因子：
17.1
作者：
Gallinet, Benjamin;Martin, Olivier J. F.
通讯作者：
Martin, Olivier J. F.
用于增强非线性可调谐性和磁滞行为的法诺共振混合超材料
DOI：
10.34133/2021/9754083
发表时间：
2021
期刊：
Research (Washington, D.C.)
影响因子：
--
作者：
Fan Y;He X;Zhang F;Cai W;Li C;Fu Q;Sydorchuk NV;Prosvirnin SL
通讯作者：
Prosvirnin SL
影响因子：
10.4
作者：
Lin, Zin;Liang, Xiangdong;Rodriguez, Alejandro W.
通讯作者：
Rodriguez, Alejandro W.