溶液成長ZnOナノロッドの成長モード制御による残留ドナー濃度均一化
溶液成長ZnOナノロッドの成長モード制御による残留ドナー濃度均一化
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通过溶液生长 ZnO 纳米棒的生长模式控制残余施主浓度的均匀化
DOI:
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发表时间:
2014
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
渡辺 健太郎,呉 承俊,長田 貴弘,若山 裕,関口 隆史,フォルク ヤノシュ
中科院分区:
文献类型:
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作者:
渡辺 健太郎;中村 芳明;渡辺 健太郎,長田 貴弘,若山 裕,関口 隆史,フォルク ヤノシュ;渡辺 健太郎;渡辺 健太郎;渡辺 健太郎,呉 承俊,長田 貴弘,若山 裕,関口 隆史,フォルク ヤノシュ