A. Masuda et al.: "Novel deposition technique of Er-doped a-Si:H combining catalytic chemical vapor deposition and pulsed laser-ablation"J. Non-Crys. Solids. 266-269. 136-140 (2000)
A. Masuda et al.: "Novel deposition technique of Er-doped a-Si:H combining catalytic chemical vapor deposition and pulsed laser-ablation"J. Non-Crys. Solids. 266-269. 136-140 (2000)
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A. Masuda 等人：“结合催化化学气相沉积和脉冲激光烧蚀的掺铒 a-Si:H 的新型沉积技术”J.
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