Deposition and characterization of diamond, silicon carbide and gallium nitride thin films
Deposition and characterization of diamond, silicon carbide and gallium nitride thin films
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金刚石、碳化硅和氮化镓薄膜的沉积和表征
DOI：
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发表时间：
1994
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
R. Davis
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R. Davis
