Y.Hayashi: "Application of a two-step growth to the formation of epitaxial CoSi_2 films on Si(od) surfaces : Comparative study using reactive deposition epitaxy"Jpn.J.Appl.Phys.. 40. 269-275 (2001)
Y.Hayashi: "Application of a two-step growth to the formation of epitaxial CoSi_2 films on Si(od) surfaces : Comparative study using reactive deposition epitaxy"Jpn.J.Appl.Phys.. 40. 269-275 (2001)
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Y.Hayashi：“应用两步生长在 Si(od) 表面上形成外延 CoSi_2 薄膜：使用反应沉积外延的比较研究”Jpn.J.Appl.Phys.. 40. 269-275 (2001)
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