采用磁控溅射技术在 Hastelloy 合金基带上生长 CeO2 薄膜
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DOI：
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发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
谢清连
中科院分区：
文献类型：
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作者：
金艳营;韩徐;赵新霞;吴振宇;苏玲玲;谢清连
