T.Sadoh他: "Dose-Dependent Etching Selectivity in SiO_2 by Focused Ion Beam"Jpn.J.Appl.Phys.. 42(4B). 1855-1858 (2003)
T.Sadoh他: "Dose-Dependent Etching Selectivity in SiO_2 by Focused Ion Beam"Jpn.J.Appl.Phys.. 42(4B). 1855-1858 (2003)
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T. Sadoh 等人：“聚焦离子束对 SiO_2 的剂量依赖性蚀刻选择性”Jpn.J.Appl.Phys. 42(4B) (2003)。
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