スラリー埋没加熱処理により作製したハイドロキシアパタイト皮膜の均一性評価
スラリー埋没加熱処理により作製したハイドロキシアパタイト皮膜の均一性評価
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浆料浸没热处理制备羟基磷灰石薄膜的均匀性评价
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
大津直史
中科院分区：
文献类型：
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作者：
中村勇気;大津直史
