RFバイアススパッタ法により生じる高エネルギー正イオン照射を利用した六方晶系薄膜の配向制御
RFバイアススパッタ法により生じる高エネルギー正イオン照射を利用した六方晶系薄膜の配向制御
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利用射频偏压溅射产生的高能正离子辐射控制六边形薄膜的取向
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
松川真美
中科院分区：
文献类型：
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作者：
高柳真司;柳谷隆彦;松川真美
