Photopatterning of Poly (arylene dienylene) by the Photoacid-Catalyzed Deprotection-Elimination Reaction of a Precursor Polymer
Photopatterning of Poly (arylene dienylene) by the Photoacid-Catalyzed Deprotection-Elimination Reaction of a Precursor Polymer
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通过光酸催化前体聚合物的脱保护-消除反应对聚（亚芳基二烯基）进行光图案化
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Kenichiro Itami
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Jean Bouffard;Mitsuru Watanabe;Hiroko Takaba;Kenichiro Itami
