村田 好正他: "Laser etching on thd Cl-saturated Si(111)7X7 surface at 266nm studied by scanning tunnelling microscopy" Journal of Physics:Condensed Matter. 4. 8435-8440 (1992)
村田 好正他: "Laser etching on thd Cl-saturated Si(111)7X7 surface at 266nm studied by scanning tunnelling microscopy" Journal of Physics:Condensed Matter. 4. 8435-8440 (1992)
复制标题
Yoshimasa Murata 等人：“通过扫描隧道显微镜研究 266 nm 处 Cl 饱和 Si(111)7X7 表面的激光蚀刻”《物理学杂志：凝聚态》4. 8435-8440 (1992)
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
