Reaction analysis for ZrO2 and Y2O3 thin film growth by low-pressure metalorganic chemical vapor deposition using β-diketonate complexes
Reaction analysis for ZrO2 and Y2O3 thin film growth by low-pressure metalorganic chemical vapor deposition using β-diketonate complexes
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使用 β-二酮配合物低压金属有机化学气相沉积 ZrO2 和 Y2O3 薄膜生长的反应分析
DOI：
10.1016/0022-0248(94)00623-7
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发表时间：
1995
影响因子：
1.8
通讯作者：
N. Imaishi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Akiyama;Tsuneyuki Sato;N. Imaishi
