電界スラリー制御技術を適用したSi 向け小型片面研磨装置の開発
電界スラリー制御技術を適用したSi 向け小型片面研磨装置の開発
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采用电场浆料控制技术开发紧凑型硅单面抛光设备
DOI:
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发表时间:
2019
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
池田 洋,大橋 儀宗,久住孝幸,越後谷正美,赤上陽一
中科院分区:
文献类型:
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作者:
安斎聡;岩井学,山下凌大,市川可奈子,神谷和秀,関口有揮,二ノ宮進一;山下凌大,市川可奈子,安斎聡,岩井学,原田武則,山田邦治,遠藤慶輝,二ノ宮進一;久住孝幸,越後谷 正見,池田洋,細川遥花,中村竜太,大久保義真,赤上陽一;池田洋,野澤正和,櫻田陽,久住孝幸,越後谷正美,赤上陽一;池田洋,遠藤大輔,久住孝幸,赤上陽一;佐藤 唯我,池田洋,久住孝幸,赤上陽一;船木陸,池田洋,久住孝幸,赤上陽一;佐藤 唯我,池田洋,久住孝幸,赤上陽一;船木陸,池田洋,久住孝幸,赤上陽一;船木陸,池田洋,久住孝幸,赤上陽一;佐藤唯我,池田洋,久住孝幸,赤上陽一;遠藤大輔,池田洋,久住孝幸,赤上陽一;佐藤唯我,池田洋,久住孝幸,赤上陽一;遠藤大輔,池田洋,久住孝幸,赤上陽一;船木陸,池田洋,久住孝幸,赤上陽一;池田 洋,奈良泰七,三浦辰徳,久住孝幸,越後谷正美,赤上陽一;池田 洋,大橋 儀宗,久住孝幸,越後谷正美,赤上陽一