Formation Process of Metastable Phases of Al-Doped HfO2 Films Directly on Si by Atomic Layer Deposition
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原子层沉积直接在Si上形成Al掺杂HfO2薄膜亚稳相的过程
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Norifumi Fujimura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Shuya Takarae;Kenshi Takada;Yuki Saho;Takeshi Yoshimura;Norifumi Fujimura
