Development of Magnet-Free Sputtering System for Dielectric Film Deposition
Development of Magnet-Free Sputtering System for Dielectric Film Deposition
复制标题
介质薄膜沉积无磁溅射系统的开发
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T. Noda and H. Toyoda
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Sarugaku;Y. Ikeda;N. Kobayashi et al.;T. Noda and H. Toyoda
