Critical dimension control in optical lithography
Critical dimension control in optical lithography
复制标题
光学光刻的关键尺寸控制
DOI：
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发表时间：
2003
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
V. Ivin
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Postnikov;S. Hector;C. Garza;Richard D. Peters;V. Ivin
