Hf-based Ferroelectric Thin Films for MFSFET Application
Hf-based Ferroelectric Thin Films for MFSFET Application
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用于 MFSFET 应用的铪基铁电薄膜
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Joong-Won Shin and Shun-ichiro Ohmi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
田沼 将一;Joong-Won Shin;大見 俊一郎;田沼将一，Joong-Won Shin，大見俊一郎;Joong-Won Shin and Shun-ichiro Ohmi
