Valleysplitting edgechannel transport in a Si/SiGe quantum Hall system
Valleysplitting edgechannel transport in a Si/SiGe quantum Hall system
复制标题
Si/SiGe 量子霍尔系统中的谷分裂边缘通道传输
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Suguhara
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Fiebig;N. P. Duong;T. Satoh;B B. Van Aken;K. Miyano;Y. Tomioka;Y. Tokura;H.Shima;K. Suguhara
