プラズマ酸化層を挿入したSiO2/InAlN界面の特性
プラズマ酸化層を挿入したSiO2/InAlN界面の特性
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插入等离子体氧化层的SiO2/InAlN界面特性
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
赤澤 正道
中科院分区：
文献类型：
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作者：
清野 惇;横田 直茂;赤澤 正道
